[비즈니스포스트] 삼성전자 D램 반도체 공정기술을 중국으로 유출했다는 의혹을 받는 전직 임직원 2명이 구속 상태로 검찰에 송치됐다.

서울경찰청 산업기술안보수사대는 삼성전자 전직 임원 최모씨와 오모씨를 구속 송치했다고 10일 밝혔다.
 
최모씨는 삼성전자와 SK하이닉스 임원 출신으로 2020년 중국에 반도체 회사를 설립한 뒤 오씨를 비롯한 한국 반도체 전문인력을 영입해 핵심 기술을 유출한 혐의를 받고 있다.

오씨는 삼성전자 수석 연구원으로 일한 경력이 있다.

이들은 삼성전자가 2014년에 독자적으로 개발한 20나노급 D램 공정 기술 자료를 빼돌렸다는 의혹을 받고 있다.

경찰은 삼성전자를 비롯한 한국 반도체 기업에서 일하다 중국으로 이직한 임직원 수십 명도 추가로 입건해 수사를 진행하고 있다. 이근호 기자