▲ 이재용 삼성전자 부회장이 1월2일 삼성전자 화성사업장 내 연구소를 방문하고 있다. <삼성전자>

이재용 삼성전자 부회장이 극자외선(EUV) 공정 전용 반도체 생산라인을 둘러보고 임직원을 격려했다.
이 부회장은 20일 경기도 화성사업장을 방문해 극자외선 전용 반도체 생산라인을 직접 살펴봤다.
극자외선 노광기술은 파장이 짧은 극자외선 광원을 사용해 웨이퍼에 반도체 회로를 새기는 기술이다. 불화아르곤(ArF)을 이용한 기존 기술보다 세밀한 회로를 구현할 수 있어 고성능 저전력 반도체를 만드는데 필수기술이다.
이 부회장이 방문한 V1라인은 삼성전자의 첫 극자외선 전용 라인이다. 2월 본격적으로 가동을 시작해 7나노 이하 반도체 생산에 들어갔다.
삼성전자는 앞으로 이곳에서 차세대 반도체 위탁생산(파운드리) 제품을 주력으로 생산한다는 계획을 세웠다.
이 부회장은 “지난해 우리는 이 자리에 시스템반도체 세계 1등의 비전을 심었고 오늘 긴 여정의 첫 단추를 꿰었다”며 “이곳에서 만드는 작은 반도체에 인류사회 공헌이라는 꿈이 담길 수 있도록 도전을 멈추지 말자”고 말했다.
삼성전자는 2019년 반도체 비전 2030을 발표했다. 2030년까지 시스템반도체 분야에 133조 원을 투자하고 1만5천 명을 채용해 메모리반도체처럼 업계 1위에 오르겠다는 목표를 제시했다. [비즈니스포스트 김디모데 기자]