삼성전자가 경기도 화성사업장의 17라인을 이른 시일 안에 본격 가동할 것으로 알려졌다.

26일 반도체업계에 따르면 삼성전자는 화성 반도체사업장 17라인의 1단계 D램 생산시설을 올해 3분기 이미 가동하기 시작했다. 삼성전자는 올해 말까지 2단계 라인도 가동에 들어갈 것으로 전망된다.

  삼성전자, 화성 반도체사업장의 17라인 본격 가동  
▲ 김기남 삼성전자 반도체총괄 겸 시스템LSI사업부 사장.
삼성전자는 17라인에서 고부가 D램인 DDR4를 주력 생산할 것으로 전해졌다.

삼성전자는 PC용 D램 생산비중을 줄이고 모바일 D램 비중을 늘리려 한다. 또 고사양 반도체 중심으로 수익성을 높이기 위해 DDR4 D램의 비중을 늘리는 데 집중하고 있다.

업계의 한 관계자는 “삼성전자는 화성 반도체공장의 1단계 라인은 첨단 D램을 생산한다”며 “2단계 라인에서는 시스템반도체를 생산할지 검토하고 있다”고 말했다.

삼성전자는 화성 17라인에서 고부가 D램을 양산하고 중국의 시안 공장에서 V낸드를 양산하는 체제를 갖추게 된다. 시스템반도체는 미국 오스틴 공장 등 여러 단지에서 나눠 생산된다.

삼성전자는 5월 건설에 들어간 평택 반도체 단지에 2017년까지 15조6천억 원을 투입해 반도체 양산 라인을 구축한다. 삼성전자는 평택 반도체단지에서 어떤 제품을 생산할지 아직 구체적으로 검토하지 않고 있다.

삼성전자가 올해 안에 17라인을 100% 가동하게 되면 D램 시장에서 공급과잉을 유발할 수 있다는 우려도 제기된다.

반도체업계의 한 관계자는 “생산라인을 증설한다고 곧바로 공급 과잉으로 이어지지는 않을 것”이라며 “삼성전자가 17라인을 가동하는 것은 D램 시장에서 첨단 제품으로 수익성을 높여 후발주자들과 격차를 벌리려는 것”이라고 말했다. [비즈니스포스트 오대석 기자]