삼성전자 파운드리(반도체 위탁생산)사업부장이 반도체 공정 전문가 최시영 신임 사장으로 바뀌었다.

파운드리사업 경쟁력을 높이기 위해서는 고객사가 설계한 반도체를 만들 수 있는 기술력을 갖춰야 한다. 최 사장은 삼성전자의 반도체 성능 향상을 주도해 온 만큼 파운드리사업에서도 역량을 발휘할 것이라는 기대를 받는다.
 
2일 삼성전자 정기 사장단 인사로 최시영 글로벌인프라총괄 메모리제조기술센터장 부사장이 사장으로 승진해 파운드리사업부장을 맡게 됐다.

최 사장은 연세대학교에서 재료공학 학사와 석사학위를 취득한 뒤 미국 오하이오주립대에서 전자재료공학 박사학위를 받았다. 

1995년 삼성전자에 입사해 메모리본부 반도체연구소 공정개발2팀에서 경력을 시작했다. 이후 삼성전자 반도체연구소 공정개발팀장, 파운드리제조기술센터장, 메모리제조기술센터장 등을 역임했다. 

삼성전자 반도체부문 임원들이 필요에 따라 행사나 자체 인터뷰를 통해 목소리를 내는 것과 달리 최 사장은 지금까지 외부에 모습을 비친 적이 거의 없다.

삼성전자에 따르면 최 사장은 삼성전자에서 “모든 반도체 제품에 관한 공정 개발과 제조부문을 이끌어 왔다”는 평가를 받는다.

반도체는 회로가 미세할수록 성능과 전력 효율이 높아진다. 1970년대에는 반도체 회로 폭이 마이크로미터(㎛) 단위에 머물렀지만 최근에는 삼성전자를 필두로 나노미터(nm) 단위의 미세공정 경쟁이 펼쳐지고 있다. 1나노미터는 사람 머리카락 굵기의 10만 분의 1에 해당한다.

최 사장은 반도체연구소에서 공정 개발을 맡아 삼성전자가 50나노급, 40나노급, 30나노급 등으로 메모리반도체 D램 미세공정을 심화하는 데 기여했다. 현재 삼성전자는 4세대 10나노급(1a) D램 양산 기술을 개발하고 있다. 

삼성전자가 최근 파운드리사업에서 세계 1위 대만 TSMC에 버금가는 미세공정 기술력을 보유하게 된 데도 최 사장의 공이 컸다.

최 사장은 2015년부터 2017년까지 기흥·화성 사업장 시스템LSI제조센터 YE(수율 개선)팀장을, 2017년부터 2018년까지 기흥·화성·평택사업장 파운드리제조기술센터장을 지냈다.

이 기간에 삼성전자는 시스템반도체를 생산하는 데 14나노급에서 7나노급에 이르는 로드맵을 완성했다. 또 극자외선(EUV) 공정을 도입하는 성과를 내기도 했다. 극자외선 공정은 파장이 짧은 극자외선을 통해 더 미세한 반도체 회로를 그리는 기술을 말한다.

삼성전자 파운드리사업부는 올해 하반기부터 본격적으로 5나노급 반도체 양산에 들어갔다. 현재 세계에서 5나노급 반도체를 만들 수 있는 파운드리기업은 TSMC와 삼성전자뿐이다.

삼성전자는 이런 기술력에 힘입어 전임 파운드리사업부장 정은승 사장 재임시기에 세계 파운드리시장 점유율 2위에 올랐다.

최 사장은 정 사장의 뒤를 이어 파운드리사업에서 TSMC를 능가하는 성장세를 보여줘야 하는 과제를 짊어졌다.

삼성전자는 “최 사장은 공정 개발 전문성과 반도체 전 제품에 관한 제조 경험을 바탕으로 파운드리 세계 1위 달성의 발판을 마련해 줄 것으로 기대된다”고 말했다. [비즈니스포스트 임한솔 기자]