삼성전자가 EUV(극자외선) 신기술을 적용한 7나노 미세공정 반도체의 개발을 완료하고 양산을 시작했다.

삼성전자는 17일 미국 실리콘밸리 사옥에서 '삼성 테크데이 2018' 행사를 열고 글로벌 IT업계 관계자 등 500여 명을 초청해 다양한 반도체 솔루션을 선보였다.
 
밥 스티어 삼성전자 DS부문 미주총괄은 이날 행사에서 삼성전자가 EUV기술을 적용한 7나노 반도체의 대량생산을 시작했다고 밝혔다.

EUV는 반도체 회로를 그리는 노광공정에 활용되는 신기술로 미세공정 구현에 유리하다.

삼성전자가 EUV를 통해 상용화한 7나노 미세공정 반도체는 기존 10나노 공정과 비교해 반도체 크기를 40% 줄일 수 있고 구동 성능을 최대 20%, 전력효율을 50% 높일 수 있다.

7나노 EUV공정은 삼성전자의 시스템반도체 위탁생산에 활용된다.

삼성전자 관계자는 "EUV 기반의 7나노 공정으로 고객사가 설계에 들이는 비용과 시간을 줄이며 고성능과 저전력, 초소형의 첨단 반도체를 적기에 개발할 수 있도록 지원하겠다"고 말했다.

삼성전자가 약 7조 원을 투자해 짓고 있는 화성의 새 반도체공장이 EUV를 활용한 위탁생산 전용 공장으로 운영된다.

이날 행사에서 삼성전자는 QLC(쿼드레벨셀) 기반의 8테라바이트급 기업용 SSD와 2세대 Z-SSD, 256기가비트(Gb) 용량의 서버용 D램 모듈도 처음 공개했다.

삼성전자 관계자는 "차세대 IT시장에 최적화된 반도체 기술을 선행적으로 개발해 나가겠다"며 "고객사들의 수요에 적극 대응할 것"이라고 말했다. [비즈니스포스트 김용원 기자]