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[Who Is ?] 정수홍 에스앤에스텍 대표이사

국내 최초 반도체용 블랭크마스크 국산화 성공, 글로벌 EUV 소재기업 도약 목표 [2025년]
김은혜 기자 grace@businesspost.co.kr 2025-07-10 08:00:00
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생애
[Who Is ?] 정수홍 에스앤에스텍 대표이사
▲ 정수홍 에스앤에스텍 대표이사 회장.

정수홍은 에스앤에스텍의 대표이사 회장이다.

1955년 7월18일 대구에서 태어났다.

대구고등학교와 경북대학교 고분자학과를 졸업했다. 경북대학교 대학원에서 반도체공학 석사학위를 받았다.

한국전자기술연구소와 삼성반도체, 한려개발을 거쳐 한국듀폰에서 공장장으로 근무했다.

아남반도체기술 부사장으로 일하다 1995년 피케이엘 대표이사 사장에 선임됐다.

2001년 에스앤에스텍을 설립해 블랭크마스크사업을 시작했다.

포트로닉스 아시아담당 사장 겸 업무최고책임자와 피케이엘 대표이사 회장을 거쳐 2018년부터 에스앤에스텍 대표이사로 재직하고 있다.

경영활동의 공과
[Who Is ?] 정수홍 에스앤에스텍 대표이사
▲ 정수홍 에스앤에스텍 대표이사(왼쪽)가 2024년 5월2일 경북경산산학융합원과 반도체 산업 진흥 및 전문기술 인력 양성을 위한 업무협약을 체결하고 김봉환 원장과 기념촬영을 하고 있다. <경북경산산학융합원>
△에스앤에스텍의 사업
정수홍이 2001년 설립한 에스앤에스텍은 반도체 및 디스플레이용 블랭크마스크 제조 전문 기업으로 주요 고객사로는 삼성전자 등이 있다.

블랭크마스크는 반도체, 액정표시장치(LCD), 유기발광다이오드(OLED), 컬러필터 등을 제조할 때 필요한 포토마스크용 핵심 재료다. 회로 패턴을 노광시키기 전 마스크를 뜻한다. 일본 호야, 울코트, CST, 신에쓰 등 일본 기업이 이 분야 경쟁사다.

2003년 에스앤에스텍이 연구·개발(R&D)을 통해 국내 최초로 반도체용 바이너리 블랭크마스크 국산화에 성공해 과거 일본 기업의 전유물이던 블랭크 마스크 시장을 재편했다.

디스플레이용 블랭크마스크는 주로 LCD나 OLED 패널 제조 과정에서 사용되며, 비교적 넓은 면적에 정밀한 패턴을 구현하는 것이 핵심이다. 반도체용의 경우 메모리·시스템 반도체와 같은 고밀도, 초미세 회로 구현에 사용되며 미세화 공정의 난이도가 높다.

에스앤에스텍은 주요 반도체·디스플레이 제조사와 협력하며 기술 및 제품 공급을 확대하고 있다. 삼성전자, SK하이닉스, LG디스플레이 등과 협력 중이며 241건의 국내 특허를 출원, 104건을 등록했다. 지난 3년간 17건의 공동기술 개발실적을 달성했다.

△에스앤에스텍의 지배구조
에스앤에스텍은 2024년 12월31일 현재 에스앤에스인베스트먼트, 에스앤에스 넥스트테크놀로지 1호, 에스앤에스랩 3개 연결대상 종속회사가 있다.

에스앤에스텍은 종속회사인 에스앤에스인베스트먼트 및 에스앤에스랩 등을 통해 신기술사업금융업과 바이오 및 과학기술 서비스업 등의 부가적인 사업도 영위하고 있다.

2025년 3월 31일 현재, 에스앤에스텍의 이사회는 4명의 사내이사, 3명의 사외이사 등 총 7명으로 구성돼 있다. 사내이사는 정수홍, 이종림 사장, 허진구 전무, 정성훈 전무가 맡고 있으며 박재근 한양대학교 융합전자공학부 교수, 정성모 피케이엘 부사장, 배근수 법률사무소 다현 대표변호사가 사외이사로 있다.

이사회 의장은 정수홍이 겸하고 있다.

2025년 3월31일 현재 에스앤에스텍은 3명의 사외이사로 구성된 감사위원회를 운영하고 있다. 감사위원 중 회계·재무전문가는 배근수 법률사무소 다현 대표변호사다.

정수홍은 2025년 3월31일 현재 에스앤에스텍 주식 428만주(19.95%)를 들고 있는 최대주주다. 정수홍의 차남 정성훈 전무 0.94%, 장남 정시준 에스앤에스인베스트먼트 대표 0.89% 순으로 지분을 들고 있으며 정수홍은 이들 특수관계인 지분을 포함 21.77%의 지분율로 에스앤에스텍를 지배하고 있다.

삼성전자는 2020년 에스앤에스텍에 659억 원을 투자, 지분 8%를 확보한 2대 주주다.

소액 주주가 60.41%의 지분을 보유하고 있다.

[Who Is ?] 정수홍 에스앤에스텍 대표이사
▲ 에스앤에스텍의 실적 <그래프 비즈니스포스트>
△중국 파운드리업체 수요 증가로 호실적
에스앤에스텍은 2025년 1분기 연결기준 매출 579억 원, 영업이익 119억, 분기순이익 119억 원을 기록했다. 전년 동기보다 매출은 38.5%, 영업이익 61.1%, 분기순이익은 55.5% 성장했다.

에스앤에스텍은 한국, 대만, 중국 등 주요 반도체 위탁생산(파운드리) 업체에 블랭크마스크를 공급하고 있으며, 2024년 중국 파운드리 업체들이 구형(레거시) 반도체 생산능력을 확대하면서 심자외선(DUV) 블랭크마스크 수요가 증가한 게 호실적의 주된 이유로 분석된다.

에스앤에스텍은 2024년 수요 증가로 일부 DUV 블랭크마스크 제품에 대한 가격을 최대 50% 인상하기도 했다.

앞서 에스앤에스텍은 2024년 연결기준 매출 1760억 원, 영업이익 295억 원, 당기순이익 303억 원의 실적을 기록했다.

이는 전년 대비 매출은 17.1%, 영업이익 17.7%, 당기순이익 17.2% 증가한 수치다.

반도체 및 디스플레이 산업의 지속적인 성장과 기술 혁신에 따라 블랭크 마스크의 중요성이 더욱 부각되고 있으며, 이에 대한 수요 증가에 따른 것으로 풀이된다.

△삼성전자 ‘ArF 블랭크 마스크’ 국내산 대체 임박
서울경제신문이 2025년 3월3일 삼성전자 반도체(DS) 부문이 ‘불화아르곤(ArF) 블랭크 마스크’를 국내산으로 대체하는 작업에 속도를 내고 있으며 이를 위해 ArF 블랭크 마스크를 생산 중인 에스앤에스텍과 긴밀히 협력을 진행하고 있다는 단독 기사가 났다.

보도에 따르면 삼성이 그동안 에스앤에스텍으로부터 소량의 국산 ArF 블랭크 마스크를 받아왔지만 최근에는 특정 공정에 본격 도입하기 위한 평가를 시작했다.

펠리클은 반도체 회로 패턴이 그려진 포토마스크에 이물이 묻지 않도록 해 손상을 방지하는 덮개같은 부품이다. EUV 공정용 포토마스크는 한 장에 수억 원을 호가하는 고가품이다.

기존 펠리클은 ArF(불화아르곤), KrF(불화크립톤) 펠리클이 적용되고 있는데 EUV공정이 적용되면서 차세대 EUV용 펠리클 개발에 나서고 있다.

ArF 블랭크 마스크는 반도체 노광 공정에 필수 소재다. 노광은 동그란 웨이퍼 위에 빛으로 회로를 찍어내는 작업이다. 빛이 회로 모양을 머금고 웨이퍼로 향하려면 ‘마스크’라는 틀을 통과해야 하는데 이 마스크를 제작하기 위한 기본 재료가 블랭크 마스크다. 전체 노광 단계에서 약 40% 이상을 차지하는 필수 소재이기도 하다.

그간 삼성전자의 ArF 블랭크 마스크는 주로 일본 호야사가 압도적인 비중의 공급처였다. 향후 단계적으로 국산 제품으로 대체한다는 방침을 세웠다는 것이다.

삼성전자는 ArF 블랭크 마스크보다 한 단계 위 제품인 극자외선(EUV) 블랭크 마스크의 대체재 개발도 에스앤에스텍에 우선순위를 둔 것으로 파악됐다.

△심플랫폼 AI 모니터링 기술 도입
에스앤에스텍이 공정 효율화를 위해 산업용 AIoT(인공지능 사물인터넷) 기술 기업 심플랫폼의 AI 서비스를 도입한다고 2025년 2월27일 밝혔다.

에스앤에스텍의 주요 제품인 블랭크 마스크는 반도체와 LCD 제조에 필수적인 포토마스크의 원재료다. 전자회로 패턴이 형성되기 전의 깨끗한 원판을 말한다. 석영(쿼츠) 유리기판 위에 크롬 및 크롬화합물의 금속박막을 증착한 형태로, 전자빔 또는 레이저 공정을 거쳐 포토마스크로 가공된다.

심플랫폼은 제품의 이상 상태를 탐지하고 생산 제품의 불량 이미지를 분석해 분량 유형을 분석하는 서비스를 제공한다는 계획을 갖고 있다. 제공되는 AI 기능에는 학습데이터 관리, 모델 버전 관리, 재학습관리, 배포 관리 등이 포함된다.

앞서 심플랫폼은 2023년 에스앤에스텍의 공정 모니터링을 통해 제품 불량 이슈를 성공적으로 파악한 바 있다. 이후 보다 높은 성공률을 확보하기 위해 2024년부터 공정 전반에 대한 최적의 AI 적용 방안을 컨설팅해왔다.

아울러 블랭크 마스크의 공정 모니터링 대상을 확대하고 비전AI(Vision AI) 기반 품질 검사를 도입해 제조 효율성을 극대화함으로써 제품이 최상의 품질로 생산될 수 있도록 지원한다는 방침을 세웠다.

△장남 넘어선 차남 지분율, 승계 구도 가시화
정수홍은 2024년 말 차남인 정성훈 전무에게 10만 주(약 26억 원)를 증여했다. 정수홍의 증여 후 지분율은 20.42%(438만 주)에서 19.95%(428만 주)로 낮아졌고, 정성훈 전무는 0.47%(10만1천 주)에서 0.94%(20만1천 주)로 올랐다.

정성훈 전무는 1988년생으로 코메스엔베스트먼트 투자심사역과 삼성전자 상생협력아카데미를 거쳐 에스앤에스텍 전략기획 부서에서 신사업 발굴을 맡고 있다. 2021년 사내이사로 선임됐다.

정수홍의 장남인 정시준 에스앤에스인베스트먼트 대표는 2019년 에스앤에스텍 사내이사로 선임됐다가 2020년 10월 사임했다. 에스앤에스인베스트먼트는 에스앤에스텍의 100% 자회사다. 정시준 대표가 보유한 에스앤에스텍 지분율은 0.89%(19만 주)다. 이번 증여로 차남 정성훈 전무의 지분율이 장남 정시준 대표를 넘어선 셈이다.

IB업계에서는 사실상 차남인 정성훈 전무가 에스앤에스텍을 물려받고, 장남인 정시준 대표가 에스앤에스인베스트먼트를 운영하는 식으로 지배구조가 정리될 것으로 전망하고 있다.

△EUV 펠리클 국산화 단계 임박
에스앤에스텍은 삼성전자로부터 투자를 받아 2024년 말 현재 EUV 펠리클 국산화 단계에 와있는 것으로 파악된다.

에스앤에스텍은 2025년 하반기 완공 예정인 용인공장에서 차세대 EUV 펠리클을 양산한다는 계획을 갖고 있다.

앞서 2021년 에스앤에스텍은 1세대 EUV 펠리클의 개발을 완료했다. 투과율 90% 이상으로 400와트(W) 출력을 견디는 내구성을 갖췄다. 2세대 펠리클은 2025년 이후 2나노 공정에서 사용될 ‘하이 NA’ EUV 장비 출력을 견딜 수 있는 수준이라고 한다.

이와 관련 에스앤에스텍은 ASML과 품질 테스트 관련 협의를 진행 중이다. 전세계 EUV 장비를 독점하는 ASML의 테스트를 통과하면 사실상 ‘품질 인증’을 받는 것으로 여겨진다.

테스트가 순탄하게 완료될 경우 2025년 하반기 완공될 경기도 용인공장에서 본격 양산에 돌입하게 될 전망이다. 양산체제를 갖추게 되면 매출도 급격한 성장을 이룰 것으로 예상된다.

EUV용 블랭크마스크는 EUV 노광 공정에서 웨이퍼에 회로를 새기는 데 활용되는 패턴 마스크의 원판으로 나노미터(㎚·10억분의 1m) 수준의 얇은 다층막(멀티 레이어) 위에 흡수체인 기반 합금을 다시 적층하는 과정을 거쳐 제작된다.

EUV 공정에서는 칩 크기가 클수록 수율이 떨어진다. EUV 펠리클을 사용하면 이를 방지할 수 있다. AI 반도체처럼 단일 칩 면적이 큰 빅칩 시장이 커지면서 EUV 펠리클 수요가 확대되고 있다.

삼성전자는 2023년 말부터 EUV 공정에 펠리클을 대량 투입하고 있으며, SK하이닉스·마이크론 등도 EUV 공정 도입에 박차를 가하고 있다.

[Who Is ?] 정수홍 에스앤에스텍 대표이사
▲ 에스앤에스텍은 경기 용인 신공장에 약 417억 원을 투자해 극자외선(EUV)용 블랭크마스크 양산을 위한 시설 투자와 신규 장비를 도입을 진행하고 있다. 용인 공장은 2025년 말 완공 예정이다. <에스앤에스텍>
△용인공장에 417억 원 투입, EUV용 블랭크마스크 양산 체제 구축
에스앤에스텍은 경기도 용인 반도체 산업단지에 위치한 공장에 신규 투자를 진행한다고 2024년 12월4일 밝혔다.

에스앤에스텍은 회사 유보자금 약 417억 원을 투자해 극자외선(EUV, Extreme Ultraviolet Lithography)용 블랭크마스크 양산을 위한 시설 투자와 신규 장비를 도입하기로 했다. 이번 투자는 EUV용 블랭크마스크 검사 장비 투자에 집중된다.

회사 측은 “지난 2020년부터 약 4년간의 연구 개발에 대한 결실로 시장의 수요 및 진입의 신호탄”이라고 밝혔다.

특히 “용인 반도체 벨트에 위치한 고객사의 요구에 신속히 대응하기 위함”이라며 “EUV용 블랭크마스크 검사 장비 투자에 집중될 것”이라고 설명했다.

회사는 먼저 2024년 내 대구 본사 공장에 클린룸을 증설해 EUV 블랭크마스크 양산 준비와 함께 EUV 펠리클 초도양산에 돌입한다는 계획을 세웠다. 초도양산은 제품을 본격 납품에 하기에 앞서, 샘플을 소량 공급해 검증하는 과정이다.

에스앤에스텍은 “2025년 말로 예정된 준공 시점 전까지의 수요는 대구 공장에서 대응이 가능하다”고 설명했다.

블랭크마스크는 패턴이 새겨지기 전 상태의 마스크를 말한다. 펠리클은 초박막 보호막이다. 포토마스크를 보호하고 결함을 최소화하는 등 수율을 높이는 데 중요한 첨단 소재다. 하지만 기술적 한계, 비용 등 여러 어려움이 뒤따라 상용화에 이르지는 못하고 있다.

△삼성 ‘CNT 펠리클’ 개발 소식에 주가 급등
2024년 10월15일 에스앤에스텍 주가가 시간외 매매에서 급등했다.

한국거래소에 따르면 전일 시간외 매매에서 에스앤에스텍 주가는 종가보다 3.17% 오른 2만6050원에 거래를 마쳤다. 에스앤에스텍의 시간외 거래량은 9163주이다.

이는 삼성전자 파운드리 사업부가 차세대 기술인 하이-NA 극자외선(EUV) 노광에 필요한 핵심 소재 상용화를 위해 속도를 내고 있다는 소식이 전해졌기 때문으로 풀이된다.

2024년 10월14일 서울경제신문은 삼성 파운드리의 ‘바쿠스(BACUS) 2024’ 학회 발표 자료를 인용해 “탄소나노튜브(CNT) 펠리클 상용화를 위한 특성 확보에 성공했다”고 보도했다.

보도에 따르면 삼성전자는 협력사인 에프에스티와 함께 개발한 CNT 펠리클이 EUV 빛을 94% 이상을 투과시켰으며 이는 기존 펠리클 투과율보다 약 5~6% 높은 수치라고 설명했다.

CNT펠리클은 웨이퍼 위에 빛으로 회로를 새기는 노광 공정에서 활용되는 소재다. 펠리클은 빛이 회로를 새기기 위해 거쳐가야 하는 '마스크'를 보호하는 덮개다.

이 소식에 에스앤에스텍 등 반도체 부품업체들이 주목받으며 줏가흐름을 끌어올렸다.

에스앤에스텍과 에프에스티는 대표적인 펠리클 생산업체이다. 둘다 삼성전자로부터 투자를 받았고 2024년 기준 EUV 펠리클 국산화 단계에 와있다.

에스앤에스텍과 에프에스티는 둘 다 1세대 EUV 펠리클은 개발을 완료한 상태다. 투과율 90% 이상으로 400와트(W) 출력을 견디는 내구성을 갖췄다. 2세대 펠리클은 2025년 이후 2나노 공정에서 사용될 ‘하이 NA’ EUV 장비 출력을 견딜 수 있는 수준이라고 한다.

에스앤에스텍은 2025년 하반기 완공예정인 용인공장에서 차세대 EUV 펠리클을 양산할 계획이고, 에프에스티는 2025년 8월까지 차세대 EUV 펠리클 양산 설비를 확보한다는 방침을 정해 놨다.

△에스앤에스랩, 구로에 대형 공유실험실 오픈
에스앤에스텍의 자회사 에스앤에스랩이 2024년 9월 서울 구로디지털단지에 2645㎡(800평) 규모의 대형 공유실험실을 오픈했다.

에스앤에스랩 구로는 2023년 2월 오픈한 성수동에 이은 두 번째 공유실험실로, 바이오 및 푸드테크 스타트업들의 성장을 위한 핵심 인프라를 제공할 예정이다.

에스앤에스랩 구로디지털단지점은 공유실험실 및 공유오피스 외에도 GMP 시설, 동물 실험실 등의 특화된 시설을 춰 나간다.

특히 GMP 시설과 동물 실험실의 구비는 의약품 개발 관련 스타트업이 초기 단계부터 임상시험 준비까지 원스톱으로 진행할 수 있다.

에스앤에스랩은 2022년 에스앤에스텍이 50억 원을 투입해 설립한 바이오 분야 전문 액셀러레이터다. 성수점 출범 후 자체 액셀러레이팅 프로그램, 공유실험실 플랫폼, 실험 대행 서비스 등을 통해 약 50여 개의 스타트업 성장을 지원해 왔다.

앞서 에스앤에스랩은 2024년 5월 이지스 자산운용의 아시아 플랫폼 인베스트먼트(API) 펀드로부터 40억 원 규모의 투자를 유치했다.

이번 투자 유치를 발판 삼아 에스앤에스랩은 라이프 사이언스 부동산(바이오·제약 분야의 연구개발·생산 등의 업무를 수행하는 데 필요한 시설을 제공하는 특화 시설 및 오피스) 시장의 혁신 주도기업으로 자리매김에 나선다는 구상을 하고 있다.

2022년 3분기 600억 원 규모의 ‘아시아 플랫폼 인베스트먼트(API)’ 펀드를 조성한 이지스자산운용의 싱가포르 법인 ‘이지스아시아’는 이번 투자를 통해 라이프 사이언스 섹터 투자 포트폴리오를 크게 확장하고자 했다. 특히 이지스자산운용 담당자는 에스앤에스랩과의 협력을 통해 인구 고령화 및 바이오 기술 발전에 따른 시장 수요에 적극 대응할 계획이라는 점을 공식화했다.

한편 에스앤에스랩은 2024년 2월1일 바이오 푸드테크 기업 ‘심플플래닛’ , 글로벌 엑셀러레이터 ‘플러그앤플레이’ 실리콘벨리와의 F&B 글로벌 이노베이션 플랫폼 구축을 위한 전략적 협약을 체결했다.

페이팔, 구글, 드롭박스 등 30여 개의 유니콘 기업을 육성한 바 있는 플러그앤플레이의 풍부한 경험과 네트워크를 바탕으로 국내 스타트업의 글로벌 시장 진출을 견인하는 역할을 한다.

△‘신물질’ 하드마스크 개발, High-NA EUV 시대 준비
에스앤에스텍이 High-NA EUV 시대에 대응하기 위해 차세대 하드마스크 개발을 완료했다. 해당 제품은 향후 고객사와의 검증을 통해 실제 적용 여부가 결정된다.

2024년 8월12일 수원 컨벤션센터에서 열린 ‘차세대 리소그래피 + 패터닝’ 학술대회에서 승병훈 에스앤에스텍 전무가 회사의 제품 개발 로드맵에 대해 밝혔다.

하드마스크는 반도체 노광공정에서 회로를 새기는 데 사용되는 블랭크마스크의 보조격 소재다. 반도체는 웨이퍼 위에 PR(감광액)을 도포한 뒤 빛을 쬐고, 이후 필요없는 물질은 깎아내는(식각) 과정을 거친다.

그런데 초미세 공정에서는 PR 두께가 매우 얇아져, 웨이퍼 하부층까지 식각하기가 어렵다. 이 때 하드마스크를 PR 증착 전에 삽입해 웨이퍼를 보호하고 식각 성능을 높인다.

기존 하드마스크 소재로는 크롬, 탄탈, 실리콘 등이 쓰였다. 그러나 High-NA EUV 공정은 감광액(PR)을 EUV(30~60나노미터) 보다 더 얇은 10~20나노미터 수준으로 도포해야 하기 때문에, 새로운 소재 적용이 필요하다.

EUV는 기존 반도체 노광공정 소재인 ArF(불화아르곤) 대비 빛의 파장이 짧아, 초미세 공정 구현에 용이한 광원이다. 현재 7나노미터(nm) 이하 공정에 적용되고 있으며, 주요 기업들은 성능을 더 높인 High-NA EUV 기술을 내년부터 본격 도입할 계획이다.

NA는 렌즈 수차로, 해당 수치를 높일수록 해상력이 향상된다. 기존 EUV의 렌즈 수차가 0.33인 반면, High-NA EUV는 0.55로 더 높다.

이에 에스앤에스텍은 신물질을 활용한 하드마스크를 개발했다. 기존 식각 공정이 산소(O2)와 염소(Cl2)를 모두 활용해야 했던 것과 달리, 차세대 하드마스크는 Cl2만을 활용할 수 있도록 만든다. 이 경우 PR을 더 얇게 도포할 수 있어 High-NA EUV에도 대응이 가능하다.

△투자사 설립해 벤처 육성 나서
전통 제조업 기반 중견기업들이 신기술사업금융회사(신기사)를 통한 스타트업 투자에 적극 뛰어들고 있는 가운데 에스앤에스텍이 2020년 9월 100억 원을 출자해 에스앤에스텍인베스트먼트를 설립하고 2021년 7월 금감원 인가를 받았다.

‘신기사’는 신기술을 개발하거나 이를 응용해 사업화하려는 신기술사업자에게 투자·융자하는 금융회사다. 중소기업창업투자회사(창투사)와 달리 투자의무 제한이 없지만 조세특례제한법에 따른 세제상 혜택을 누릴 수 있다.

에스앤에스텍인베스트먼트는 신기사를 통해 산업 고도화의 뿌리가 되는 소재·부품·장비(소부장) 분야 벤처기업을 집중 육성한다는 각오를 밝혔다.이를 위해 총 14년 이상, 금액 기준 1500억 원이 넘는 투자 경험을 축적한 전문가들로 운용팀을 꾸렸다. 휴젤, 케어젠, 마이크로프랜드, 민앤지, 코디엠 등의 투자에 참여한 이들이 주축이다.

△대구광역시에 본사, 20년간 지원 받아
대구광역시에 본사를 둔 반도체 소재 기업 에스앤에스텍은 2013년 대구시 월드스타기업으로 선정된 이후 지속적인 성장을 통해 중견기업군으로 진입했다.

2016년에는 대구연구개발특구본부로부터 올해의 첨단기술기업으로 선정돼, 법인세 3년간 100%(이후 2년간 50%), 재산세는 7년간 100%(이후 3년간 50%) 감면받는 혜택을 누렸다.

2019년에는 대구시와 중소기업중앙회 대구경북지역본부가 선정하는 중소기업 대상을 탔다.

이 상은 3년 이상 관내에 주사무소와 사업장을 둔 중소기업 가운데 수출 생산 매출 부문에서 탁월한 성장률을 보이며, 신기술개발‧자동화‧정보화 등 기업 구조개선에 귀감이 되고, 노사분규 및 임금체불이 없고 경영이 건실한지 등을 기준으로 선정하는 상이다.

수상 기업은 대구시 중소기업 육성자금지원 우대, 해외 시장개척단 파견 및 해외 전시‧박람회 등 참가 우선지원, 3년간 세무조사 면제 등의 특전을 받는다.

△2003년 블랭크마스크 국산화 성공
지난 2001년 설립된 에스앤에스텍은 반도체와 디스플레이 제조 공정의 핵심 소재인 ‘블랭크마스크’를 제조·판매하는 기업이다.

블랭크마스크는 반도체 웨이퍼에 회로를 새기기 위해 사용되는 포토마스크(Photo Mask)의 원재료로, 석영(쿼츠, Quartz) 기판 위에 금속막(크롬, Cr)과 감광액(Photo Resist, PR)을 도포해 제조한다.

이후 설계된 회로 패턴을 블랭크마스크에 형상화시켜 포토마스크를 완성하며, 노광 공정(Photo Lithography)을 통해 포토마스크에 빛을 통과시켜 반도체 웨이퍼에 회로를 새긴다.

이처럼 블랭크마스크는 반도체 및 디스플레이 제조 공정의 핵심 재료로 평가된다.

에스앤에스텍은 연구·개발(R&D)을 통해 2003년 국내 최초로 반도체용 바이너리 블랭크마스크 국산화에 성공하면서 일본 기업들이 시장을 과점하던 구도를 깼다.

에스앤에스텍은 주요 반도체·디스플레이 제조사와 협력하며 기술 및 제품 공급을 확대하고 있다. 2025년 3월 기준 삼성전자·SK하이닉스·LG디스플레이 등과 협력 중이며 241건의 국내 특허를 출원, 104건을 등록했으며 3년간 17건의 공동기술 개발실적을 달성했다.

2025년 들어 에스앤에스텍은 극자외선(EUV) 블랭크마스크·펠리클로 주목받고 있다.

EUV 공정은 기존의 심자외선(DUV) 공정보다 파장이 짧은 극자외선을 이용해 7나노 이하 초미세 반도체 회로를 제조하는 데 필수적이다. 현재 일본 기업 호야와 미쓰이화학이 시장을 각각 점유하고 있는 만큼 기술 의존도가 높은 분야다.

이에 소재 국산화를 통한 공급망 안정화 등을 위해 정부로부터 지난 5년 동안 R&D 자금을 지원 받는 등 EUV 제품 양산을 목표로 기술 고도화에 나섰다.

에스앤에스텍은 2025년 상반기 주요 고객사들과 최종 품질 조정 및 기술적 튜닝 작업을 마무리 중이다. 특히 용인에 위치한 신공장의 생산 설비 구축을 2025년10월까지 마무리한 후 2026년 초부터 본격적인 양산 체제에 돌입할 계획이다.

에스앤에스텍은 EUV 기술이 본격적으로 상용화 될 경우 연매출 규모가 3천억 원에서 최대 5천억 원 이상까지 성장할 것으로 내다보고 있다.

△에스앤에스텍이 걸어온 길
2001년 정수홍과 남기수(옛 피케이엘의 사업본부장)가 에스앤에스텍을 공동설립했다. 정수홍은 지분 투자를 통해 1대주주로 나섰으며 남기수 대표는 전문경영인으로 역할을 분담했다.

2002년 대구 성서공단에 공장을 건설했다.

2003년 국내 최초 반도체디스플레이용 블랭크마스크 개발 및 양산에 성공했다. 삼성전자에 납품을 시작했다.

2008년 우수기술제조연구센터(ATC)로 지정됐다.

2009년 코스닥시장에 상장했다.

2012년 삼성전자 신기술 개발공모제 선정됐다. 대구 달성 제2공장을 설치했다.

2013년 대구시 2013년 월드스타기업에 선정됐다.

2014년 2014년 World Class 300에 선정됐다. 대구 달성 제2공장을 폐업했다.

2016년 에스앤에스텍 제2공장을 준공했다.

2020년 에스앤에스인베스트먼트를 설립했다.

2021년 에스앤에스 넥스트테크놀로지 1호를 설립했다.

2022년 에스비아이씨랩(현 에스앤에스랩)을 설립했다. 에스비아이씨랩을 에스앤에스랩으로 사명을 바꿨다.

비전과 과제/평가

◆ 비전과 과제
[Who Is ?] 정수홍 에스앤에스텍 대표이사
▲ 정수홍 에스앤에스텍 대표이사(가운데)가 2020년 11월26일 대구광역시 달서구 호산동로 본사에 직원 복지를 위한 컬쳐센터를 오픈하고 직원대표들과 기념케이크를 자르고 있다. <에스앤에스텍>
정수홍은 한국 반도체 소재 산업의 독립과 세계 시장 진출이라는 목표 아래, 기술 혁신과 공급망 다변화를 이루는 데 초점이 맞추고 있다.

먼저 반도체 소재 국산화의 선도자에서 글로벌 EUV 소재 전문 기업으로의 도약을 목표로 EUV 블랭크마스크 및 펠리클의 국산화와 세계 시장 진출을 추진하고 있다.

정수홍은 특히 극자외선(EUV) 노광 공정용 블랭크마스크의 양산 체제 구축을 핵심 목표로 삼고 있다.

2025년 말까지 용인 신공장의 생산설비 구축을 완료하고, 2026년부터 글로벌 고객 대상으로 공급 확대를 추진한다는 계획을 세웠다.

글로벌 공급망 다변화와 고객 맞춤형 기술력 확보에도 힘을 기울이고 있다.

에스앤에스텍은 삼성전자, SK하이닉스 등 주요 고객사 외에도 중국·대만·일본·유럽 등 글로벌 고객을 다각적으로 확보하고 있다.

다양한 노광 장비에 호환되는 블랭크마스크 개발에도 나섰다.

이전까지와 달리 단순 공급이 아닌, 고객별 맞춤형 제품 개발 및 공동 기술개발 체제로 전환하며 파트너십 강화에도 힘을 주고 있다.

정수홍은 기술 완성도 확보와 수익성 있는 사업모델 구축, 원천기술과 지식재산권 강화에 힘을 기울여야 한다.

특히 EUV 펠리클 개발 지연 문제를 해결해 글로벌 경쟁 기업보다 뒤처지지 않도록 기술 확보가 시급하다.

블랭크마스크보다 더 높은 기술 장벽을 가진 펠리클(포토마스크 보호 필름) 국산화에 대해선 기술적 난이도가 크고 아직도 양산 안정화에 시간이 필요하다고 보고 있다.

원천기술과 지식재산권 강화에도 힘써야 한다. 과거 일본 기업들과의 특허 분쟁 경험을 바탕으로, 기술 보호와 IP 전략 수립은 중요한 과제로 남아 있다. 미국과 일본 기업과 비교해 자체 원천기술 기반이 취약한 부분은 장기적 투자와 인재 육성을 통해 보완해야 한다는 지적이 제기됐다.

용인 신공장 설비 투자와 R&D 투자가 지속되며, 당분간 고정비 부담이 높을 것으로 예상되는 만큼 다각화된 제품 포트폴리오를 통한 수익성 방어도 요구된다.

◆ 평가

정수홍은 국내 반도체 소재 산업의 기술 자립을 이끈 선도적인 기업가 중 한 명이다.

2001년 에스앤에스텍을 창업하고 일본 기업이 독점하던 블랭크마스크 시장에서 국산화에 성공하며 국내 반도체 기업의 경쟁력을 높였다.

정수홍이 일군 핵심 성과로는 기술 국산화 및 시장 개척, 글로벌 고객사와의 협력, EUV 블랭크마스크 양산 추진 등이 꼽힌다.

2003년 에스앤에스텍이 연구·개발(R&D)을 통해 국내 최초로 반도체용 바이너리 블랭크마스크 국산화에 성공해 과거 일본 기업의 전유물이던 블랭크 마스크 시장을 재편했다.

이로 인해 일본 기업들이 특허 소송을 제기하는 등 시장의 견제와 주목을 동시에 받았다.

기술 혁신과 전략적 파트너십을 통해 국내 반도체 산업의 자립과 경쟁력 강화를 이끌어내고 있다는 평가를 받는다.

사건사고
[Who Is ?] 정수홍 에스앤에스텍 대표이사
▲ 에스앤에스텍은 2024년 7월 창업자의 횡령 사건이 불거진 온플랫폼에 투자해 출자자들로부터 집단소송에 연루됐다. <온플랫폼 화면 갈무리>
△미국 인공지능 스타트업 투자 손실 놓고 책임 공방
에스앤에스텍의 자회사 에스앤에스인베스트먼트가 국내 벤처투자 시장에서 벤처펀드 출자자들이 벤처캐피털(VC)들을 상대로 한 집단소송에 연루됐다.

출자자들은 VC의 투자 과실과 선관주의 의무(관리자로서 책임을 다해야 한다는 원칙) 위반이 있었다고 주장한다.

해당 투자에 참여한 VC들은 투자의 위험성을 충분히 알렸고 사후 관리 과정에서도 문제가 없었다는 입장을 내세우며 팽팽히 맞서고 있다.

벤처업계에 따르면 2025년 4월24일 약 40명 규모의 출자자는 미국 인공지능(AI) 챗봇 스타트업 ‘온플랫폼’ 투자를 주도한 미래에셋벤처투자와 에스앤에스인베스트먼트에 펀드 출자금 손실 보전 소송을 청구키로 했다. 출자자 전원은 집단소송 제기에 동의한 상태로, 5월 중 대형 로펌을 선정해 관련 절차에 착수하기로 했다.

온플랫폼은 2024년 7월 창업자의 횡령 사건이 불거졌고, 이를 적기에 수습하지 못하면서 기업 청산 절차에 돌입했다. 출자자들은 사실상 투자금 전액을 돌려받지 못할 처지에 놓였다.

두 VC가 온플랫폼에 투자한 금액은 400억 원 수준이며, 이번 소송에 참여하는 출자자들이 댄 자금은 약 300억 원으로 파악된다. 이는 국내에서 다수의 벤처펀드 출자자가 VC를 상대로 투자금 보전 소송을 진행하는 첫 사례다.

특히 출자자들의 상당수가 생활 및 노후 자금을 활용해 투자에 참여한 만큼 반발이 더욱 거센 것으로 보인다.

△실적부진 에스에스디, 연결대상서 제외
에스앤에스텍은 2014년 11월14일 종속회사 에스에스디의 기업회생절차가 개시되고 법정관리인이 선임돼 3분기 연결재무제표 작성 시 연결대상에서 제외됐다.

에스앤에스텍은 2014년 7월 자회사 에스에스디의 경영정상화를 의해 대전지방법원에 회생절차를 신청한 바 있다. 이에 따라 2분기 에스앤에스텍 실적에는 에스에스디 기업정리 절차 진행에 따른 손상차손도 반영했다.

에스에스디는 에스앤에스텍이 2011년에 투자한 터치패널사업을 하는 회사다. 2012년 영업적자 70억 원, 2013년 90억 원으로 개선기미가 보이지 않자 모회사 에스앤에스택의 주가는 지속적으로 하락했다.

2015년부터 에스에스디가 연결 실적에서 제외되고 에스앤에스텍 본업 실적만 반영된다면 정상 이익으로 돌아설 전망이다.

실제로 에스앤에스텍의 별도재무제표에 따르면 2014년 상반기 영업이익은 26억9300만 원이다. 하지만 연결기준 영업이익은 1억9000만 원에 불과하다. 2013년과 2012년 별도기준 실적을 봐도 이 회사는 각각 70억 원과 62억 원의 영업이익을 올렸지만, 연결기준으로는 오히려 각각 16억 원, 6억 원의 적자를 냈다. 에스에스디의 부진 탓에 본 사업 실적이 제대로 부각되지 않았다.

△일본 업체와 특허무효소송 최종 승소
에스앤에스텍이 약 3년 4개월간의 소송 끝에 일본 경쟁업체 호야(HOYA)의 특허무효 판결을 2009년 4월 최종적으로 받아냈다.

에스앤에스텍은 “특허법원의 위상시프트 블랭크마스크(Phase Shift Blank Mask) 특허무효 판정에 대한 호야 측의 상고를 3월 26일 대법원이 기각, 호야와의 특허무효 소송에서 최종 승소했다”고 2009년 4월1일 밝혔다.

이번에 무효 처리된 호야의 특허는 반도체 제조 시 패턴의 정밀도를 향상시킬 수 있는 하이엔드급 위상시프트 블랭크마스크에 관한 특허다. 위상시프트 블랭크마스크는 반도체 집적도가 향상됨에 따라 반도체 소자의 고해상도를 구현할 수 있는 필수 재료로 그 수요가 지속적으로 증가하고 있다.

에스앤에스텍 측은 “이번 무효소송 최종 승소로 현재까지 일본업체가 독점하고 있던 고부가가치 위상시프트 블랭크마스크 시장에 본격적으로 진출할 수 있는 전기를 마련했다”고 설명했다.

앞서 에스앤에스텍은 2005년 9월 호야가 일본 업체들이 과점하던 블랭크마스크 시장에 에스앤에스텍이 진출한 이후 서울중앙지방법원에 특허침해 소송을 제기, 호야와의 특허 분쟁에 뛰어들었다.

에스앤에스텍은 2005년 11월 특허심판원에 특허무효심판을 청구했으며 2007년 7월에 호야의 특허무효 판정을 받아냈다. 호야는 다시 2007년 8월 이 사건을 특허법원에 항소했으나, 이듬해인 2008년 11월 특허법원은 호야의 청구를 기각했으며, 이번 대법원 판결로 약 3년 4개월간의 소송 끝에 에스앤에스텍이 최종 승소, 호야의 특허 무효 처분을 받아냈다.

에스앤에스텍은 이번 특허무효 소송과는 별도로 호야 측에서 제기한 위상시프트 블랭크마스크 및 그 제조방법에 대한 특허침해 소송에서도 2008년 09월 최종 승소한 바 있다.

경력/학력/가족
◆ 경력
[Who Is ?] 정수홍 에스앤에스텍 대표이사
▲ 정수홍 에스앤에스텍 대표이사(앞줄 왼쪽 두 번째)이 2021년 7월2일 코엑스 아셈볼룸에서 열린 대한민국 소재·부품·장비산업 성과 간담회에서 문재인 대통령(앞줄 오른쪽 세 번째)을 비롯 참석자들과 기념사진을 찍고 있다. <연합뉴스>
1980년 한국전자기술연구소에 연구원으로 입사했다.

1984년 삼성반도체로 자리를 옮겼다.

1987년 한려개발에서 근무했다.

1988년 한국듀폰에 공장장으로 합류했다.

1993년 아남반도체기술 부사장으로 영입됐다.

1995년 피케이엘 대표이사 사장에 선임됐다.

2001년 에스앤에스텍을 창업해 전문경영인 체제를 구축했다.

2004년 포트로닉스 아시아담당 사장 겸 업무최고책임자를 맡았다.

2008년 피케이엘 대표이사 회장에 선임됐다.

2017년 에스앤에스텍 회장이 됐다.

2018년 에스앤에스텍 대표이사로 선임됐다.

◆ 학력

1974년 대구고등학교를 졸업했다.

1981년 경북대학교 고분자공학과를 졸업했다.

1999년 경북대학교 산업대학원에서 반도체공학으로 석사학위를 받았다.

◆ 가족관계

정시준 에스앤에스인베스트먼트 대표가 장남이고 정성훈 에스앤에스텍전무가 차남이다.

◆ 상훈

2004년 12월 제4회 대구경북 벤처기업인 대회 최우수 벤처기업상을 수상했다.

2005년 8월 제6회 중소기업 기술혁신 대전 대통령상을 받았다.

2008년 10월 2008년 벤처기업대상 국무총리상을 수상했다.

2008년 12월 2008 대한민국기술대상 은상을 수상했다.

2009년 12월 지역전략산업진흥사업 지식경제부 장관 표창을 받았다.

2011년 3월 제45회 납세자의 날 기획재정부장관 표창을 받았다.

◆ 기타

정수홍은 2024년 에스앤에스텍으로부터 5억1400만 원의 보수를 받았다. 이는 급여 4억7600만 원, 상여 3800만 원을 포함한 금액이다.

정수홍은 2025년 3월31일 현재 에스앤에스텍 주식 428만 주를 들고 있다. 이 주식은 2025년 7월4일 종가(4만4550원) 기준 1906억7400만 원의 가치를 지닌다.

논문 ‘차세대 포토마스크 제작을 위한 건식식각기술’로 1999년 경북대학교 산업대학원에서 반도체공학전공으로 석사학위를 받았다.

종교는 불교다.

어록
[Who Is ?] 정수홍 에스앤에스텍 대표이사
▲ 정수홍 대구고등학교 총동창회장이 2019년 10월13일 개교 61주년을 맞이해 대구고 동문들의 긍지를 담은 역사관을 오픈했다. 대구고 한쪽에 자리 잡은 역사관은 애초 동창회 사무실이 있던 2층 건물을 동문들이 뜻을 모아 역사관으로 새 단장했다. <대구고등학교 총동창회>
“EUV 블랭크마스크 기술은 높은 정밀도와 생산 난이도를 요구하는 분야로, 주요 고객사들과 최종 품질 조정 및 기술적 튜닝 작업을 마무리 중이다. 용인에 위치한 신공장의 생산 설비 구축을 올해(2025년) 10월까지 마무리하고 내년 초부터 본격적인 양산 체제에 돌입할 것이다. 필수 소재 기업으로서 기술 경쟁력을 높이기 위한 투자를 통해 국내 반도체 산업의 기술 자립을 견인하고, 글로벌 기업으로 성장할 것이다.” (2025/03/23, 파이낸셜뉴스)

“모교의 역사를 제대로 정리해보자며 동문들이 뜻을 모은 덕분이다. 역사가 깊은 명문고들은 역사관이 있다. 선후배들과 우리 학교 역시 역사를 제대로 알리는 곳이 필요하다는 데 공감대를 형성했다. 다른 고교 역사관들은 평소 인적이 드물어 아쉬웠다. 1층에 카페를 만든 것도 그 때문이다. 사람들의 발길이 잦으면 그만큼 공간에 활기가 돌고, 자연스레 학교 역사와 우리 동문이 2·28민주운동에 크게 기여한 점도 널리 알려질 것이라는 데 착안한 시도다.” (2019/10/11, 매일신문과 대구고등학교 총동창회장 인터뷰 중에서)

“반도체용 블랭크 마스크는 세계 선두인 일본 기업과의 격차를 좁히고 있지만 디스플레이용 블랭크 마스크 시장에서는 에스앤에스텍이 세계 1등 수준임을 자부한다. 20나노 반도체 시장은 경쟁사 비중이 컸지만 10나노와 그 이하 기술 시장에서 성장 발판을 마련, 성과를 기대하고 있다.” (2019/02/11, 전자신문 ‘오늘의 CEO’ 인터뷰 중에서)
Cjournal

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