[비즈니스포스트] 삼성전자 자회사 세메스의 기술을 중국으로 유출한 전 직원 등 5명이 징역형을 받았다.

11일 법조계에 따르면 수원지방법원 형사15부(이정재 부장판사)는 이날 부정경쟁방지법 위반 등 혐의로 세메스 전 연구원 A씨에게 징역 5년에 벌금 5억 원을 선고했다.
 

또한 법원은 A씨가 세메스에서 퇴직한 뒤 2019년 설립한 반도체 장비제조업체 법인에도 벌금 10억 원을 부과했다.

A씨는 세메스에서 퇴직해 별도 법인을 차린 뒤 세메스가 세계에서 처음으로 개발과 양산에 성공한 ‘초임계 반도체 세정장비’ 핵심도면을 2021년 6월 협력사 대표로부터 부정 취득한 뒤 브로커를 통해 중국에 유출한 혐의를 받는다.

초임계 반도체 세정장비는 인산 약액 등으로 20나노 이하의 메모리 반도체 집적회로를 만드는데 사용되는 웨이퍼를 세정한 뒤 초임계 상태(임계 이상의 고온·고압의 물질의 상태)의 이산화탄소를 이용해 웨이퍼를 건조하는 장비다.

기판 손상을 최소화해 초미세 반도체의 불량률을 줄일 수 있는 기술로 세메스를 제외하면 일본 기업 한 곳만 구현 가능하다.

재판부는 범행에 가담한 기술유출 브로커와 세메스 협력업체 대표 등 4명에게 징역 2~4년씩을 선고하고 이들에게 각각 벌금 300만 원~3억 원을 내라고 판결했다.

다만 이들 가운데 세메스 협력회사 직원 1명에게는 수사협조와 범행자백 등을 참작해 징역형을 내리되 집행유예 3년을 선고했다.

재판부는 “이번 사건에서 기술 유출 및 부정 사용된 자료들은 세메스가 다년간 연구하고 개발해 얻어낸 성과이고 일부는 국가 핵심기술로 평가된다”며 “이와 같은 범죄를 가볍게 처벌하면 해외경쟁업체가 한국 기술을 손쉽게 탈취하는 것을 막지 못할 수 있어 엄벌에 처한다”고 말했다. 조장우 기자